キヤノンの最新の発表では、同社がそのようなデバイスの出荷を今年開始するだけでなく、時間をかけて2nmナノプリンティング技術を習得する予定であると述べている。

古典的なフォトリソグラフィーでは、フォトマスクを通して画像を投影し、光学材料で保護されていない結晶の部分をエッチングすることによって、シリコン基板上にマイクロチップの輪郭を描きます。 キヤノンの技術は、シリコン上にマイクロチップの形状をナノプリントするものです。 現在 3D NAND メモリ チップの製造に主に使用されている従来のフォトリソグラフィと比較して、これにより最大 10 倍のコスト削減と 90% のエネルギー コストの削減が可能になります。

日本企業の代表者によると、この技術は量産の準備が整っており、顧客への特別な装置の納入は今年後半に開始される予定だという。 ただし、キヤノンの技術は産業規模で紫外線（EUV）リソグラフィーに代わるものではなく、むしろ補助的な、よりコスト効率の高いソリューションです。

問題は、フォトリソグラフィー装置市場で納期が1年以上遅れている中で、キヤノンが今年5nmチップ製造装置を供給する意欲があることが顧客の注目を集めるだろうということだ。 キヤノンがそのシステムに共有している注意点の 1 つは、エラー率が非常に高いということです。 専門家によると、商業的に魅力的であるとみなされるには、この割合が 10% を超えてはなりません。

さらに、キヤノンは2nmナノチップ印刷技術も追求しています。 これを行うには、カスタマイズはそれほど重要ではありませんが、いくつかの追加の機器に頼る必要があります。

問題は、中国の顧客がキヤノンからそのようなデバイスを購入できるかどうかです。 物事はそれほど単純ではありません。 一方で、キヤノンは米国製の部品や技術を使用していないため、米国政府が日本企業に輸出制限を課すことはできない。 一方、日本の対中国輸出規制は米国に比べて大幅に拡大している。 したがって、中国企業によるキヤノンのナノプリンターへのアクセスは不透明だ。